300mm晶圆厂设备支出持续增长,拉动半导体陶瓷零部件需求
据SEMI最新发布的300mm晶圆厂设备支出预测报告,全球300mm晶圆厂设备支出在2026年预计将达到1330亿美元,同比增长18%;2027年将进一步增长至1510亿美元,同比增长14%。未来三年(2026至2028年),全球300mm晶圆厂设备支出合计预计将达到约3740亿美元,为半导体设备及零部件市场提供重要支撑。
从全球半导体陶瓷和材料市场来看,2025年全球市场规模约28.67亿美元,预计2032年将达到45.18亿美元,复合年增长率为6.8%。陶瓷材料(包括碳化硅、氧化铝、氮化铝等)因其高硬度、耐腐蚀、低热膨胀系数和高绝缘性等特性,成为半导体制造设备中不可或缺的关键材料。
在应用层面,半导体陶瓷零部件主要覆盖刻蚀、薄膜沉积、热处理、离子注入等关键工艺设备。其中,碳化硅陶瓷因高导热率和低热膨胀系数,适用于光刻机工件台等需要精密运动控制的部件;氧化铝陶瓷凭借良好的性价比,广泛应用于静电吸盘和刻蚀腔体防护;氮化铝陶瓷则因导热性能优异,在静电吸盘和高功率散热部件中具有优势。
从竞争格局来看,日本企业占据全球半导体陶瓷市场的主要份额,2024年全球前八大厂商占有约83%的市场份额。中国企业在该领域的市场份额约为5.5%,但增长迅速。2024年中国半导体精密陶瓷市场规模约为1.65亿美元,预计2031年将达到6.18亿美元,复合增长率约为18.58%。
分析指出,半导体结构陶瓷的未来增长将集中在更极端工艺环境的应用上:先进逻辑节点、3D NAND高纵深结构以及碳化硅/氮化镓等化合物半导体带来的高温、强腐蚀环境,对陶瓷材料的纯度、一致性和可靠性提出了更高要求,同时也为具备精密加工和材料研发能力的企业提供了发展空间。
